可靠性测试中,有一项,叫做高加速应力试验(Highly Accelerated Temperature and Humidity Stress Test,简称HAST),主要是在测试IC封装体对温湿度的抵抗能力,藉以确保产品可靠性。
这项试验方式是需透过外接电源供应器,将DC电压源送入高压锅炉机台设备内,再连接到待测IC插座(Socket)与测试版(HAST board),进行待测IC的测试。
然而这项试验,看似简单,但在宜特20多年的可靠性测试经验中,却发现客户都会遇到一些难题需要克服。特别是芯片应用日益复杂,精密度不断提升,芯片采取如球栅数组封装(Ball Grid Array,简称BGA)和芯片尺寸构装(Chip Scale package,简称CSP)封装比例越来越高,且锡球间距也越来越小,在执行HAST时,非常容易有「电化学迁移」(Electrochemical migration,简称ECM)现象的产生,造成芯片于可靠性实验过程中发生电源短路异常。而每当此现象时,相信您一定会疑问,「到底是样品工艺中哪一道步骤影响后续实验,还是实验环境端未控制好?」本期宜特小学堂,将从外而内深入探讨此问题,并与您分享,如何预防ECM现象发生。
何谓电化学迁移?
金属离子在电场的作用下,电路的阳极和阴极之间会形成一个导电信道(图一),产生电解腐蚀(Electrolytic Corrosion。样式如树枝状结构生长,造成不同区域的金属互相连接(图二),进而导致电路短路。ECM现象好发于电路板上(图三)。
图一:ECM原理
图二: 电化学迁移析出树枝状金属
图三:HAST实验后产生ECM(好发于电路板上)
一、 造成电化学迁移(ECM)最大因素
造成ECM形成的最大因素为「电解质层形成」,电解质层的形成会产生自由离子进而增加导电率。而会加速电解质层形成的原因大多为湿度、温度、汗水、环境中的污染物、助焊剂化学物、板材材料、表面粗糙度…等因素,因此,如何预防电解质层形成极为重要。
二、 焊点助焊剂(Flux)清洁与否,将影响ECM发生多寡
IC芯片封装成BGA后,于植球时会使用助焊剂(Flux)确保两种不同的金属或合金连接顺利。宜特可靠性验证实验室就观察到,Flux工艺后,若没有进行清洁动作,不仅残留物将阻碍Underfill流动路径(图四),导致填充胶无法填满芯片底部,造成许多的气泡(延伸阅读: 如何利用真空压力烤箱 消灭Underfill Void),更会加剧ECM的发生。
图四: Flux未清洗,阻塞Underfill流动
宜特可靠性验证实验室,特别做了两项实验设计(DOE),实验条件套用HAST常见的温度:130°C/湿度:85%RH,使用助焊剂为坊间常见免清洗型助焊剂。第一项DOE样品不做助焊剂清洁(Flux clean),第二项DOE样品做助焊剂清洁(Flux Clean),DOE结果可清楚看到,未做Flux Clean的样品,出现了ECM现象(图五(左)),而有做Flux Clean的样品,尽管同样出现ECM现象(图五(右)),但非常细微。
三、实验过程中,环境与人员操作手法,也会影响ECM产生。
四、如何在HAST可靠性试验时,及时发现ECM。
透过以上各种实验前置预防方法,将可有效并大幅降低ECM发生风险,但若仍疏漏了其他环节,而造成ECM或其他耗电异常现象发生,则如何于实验过程中实时发现呢?
在宜特可靠性验证实验室中,可透过电源管理系统和电源模块配置(图六(左)),搭配客制化的电路设计,除强化自动化功能外,亦增加电源监控功能,使每片HAST board都能被独立监控,于实验过程中,动态确认历程记录(图六(右)),不仅可确保测试过程的稳定性,更能即早发现产品异常现象,避免产品或电路板被严重破坏,无法继续后续失效分析。
图六(左):电源管理系统和电源模块配置;图六(右):电源监控,动态确认历程记录.